氦漏孔校準(zhǔn)裝置
本資料針對DBLS10-5氦氣漏孔校準(zhǔn)裝置的組成、操作以及維護(hù)。本裝置適用于計量測試單位開展標(biāo)準(zhǔn)漏孔校準(zhǔn),量值溯源。本系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單,易于操作、維護(hù),效率高。
關(guān)鍵詞:標(biāo)準(zhǔn)漏孔 | MPCVD | 電容薄膜規(guī)真空計 | 高低真空校準(zhǔn)裝置 | 氦漏孔校準(zhǔn)裝置
分類:
產(chǎn)品詳情
技術(shù)配置
本資料針對DBLS10-5氦氣漏孔校準(zhǔn)裝置的組成、操作以及維護(hù)。本裝置適用于計量測試單位開展標(biāo)準(zhǔn)漏孔校準(zhǔn),量值溯源。本系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單,易于操作、維護(hù),效率高。
1、設(shè)備使用環(huán)境條件:
環(huán)境溫度20±5℃
相對濕度<85%RH
電源電壓220V
2、技術(shù)指標(biāo):
標(biāo)準(zhǔn)漏孔校準(zhǔn)范圍(1×10-4~1×10-10)Pa•m3/s,
不確定度:U=(10~15)%(k=2);
氦氣(真空模式)最低可檢漏率<5E-12mbar•L/s;
ULTRA模式最大進(jìn)氣口壓力<0.4mbar;
含兩個燈絲離子源(3年質(zhì)保)的耐用質(zhì)譜系統(tǒng);
專用校準(zhǔn)軟件可實現(xiàn)計算機(jī)數(shù)據(jù)采集、漏率計算和原始記錄生成;
滿足JJF1833-2020《真空氦標(biāo)準(zhǔn)漏孔校準(zhǔn)規(guī)范》的測量要求。
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