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電容薄膜規真空計

產品特點 同時顯示三路薄膜規，三路可分別調整量程 輸入電壓誤差5MV 可變小數點，單位

MPCVD單晶金剛石生長機器設備

微波等離子體化學氣相沉積 (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition )是高效、高質量制備金剛石的首選方法，打破了設備對 襯底尺寸的限制，為大面積單晶金剛石生長提供條件。

差壓式氣密檢漏儀校準規范用標準漏孔和基準物

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氣密性檢漏儀校準漏孔 VTL-DA型(Air)

氣密性檢漏儀一般有直壓式，差壓式和流量式等，檢測系統在真空或正壓條件下形成壓差，通過判斷壓力或者流量的變化來計算泄漏量的檢測方法。

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